Dr.Althea 345 Relief Cream Mask
คุณสมบัติ
มาส์กสูตร 345 ปลอบประโลมผิว ช่วยลดรอยแดงและการระคายเคืองทันที
เติมความชุ่มชื้นล้ำลึก พร้อมฟื้นเกราะป้องกันผิวให้แข็งแรง
แผ่นมาส์กเซลลูโลสวีแกนแนบสนิท ช่วยให้สารบำรุงซึมซาบได้อย่างมีประสิทธิภาพ
เหมาะสำหรับผิวแพ้ง่าย ผิวแห้ง และผิวที่ต้องการการฟื้นฟูเป็นพิเศษ
Key Benefit
ส่วนผสมลดเลือนรอย (Blemish Relief 3 ชนิด)
Niacinamide, Resveratrol, Pantothenic Acid
→ ช่วยลดเลือนรอยแดงและรอยสิว เผยผิวกระจ่างใสขึ้นอย่างอ่อนโยน
ส่วนผสมบำรุงลึก (Nourishing 4 ชนิด)
Ceramide NP, Beta-Glucan, Sodium DNA, Hydrolyzed Hyaluronic Acid
→ เติมความชุ่มชื้น ฟื้นเกราะปกป้องผิวให้แข็งแรง
ส่วนผสมปลอบประโลม (Soothing 5 ชนิด)
Tea Tree Leaf Water, Camellia Sinensis Leaf Water, Sodium DNA,
Centella Asiatica Leaf Water, Madecassoside
→ ปลอบประโลม ลดการระคายเคือง และช่วยให้ผิวกลับมาสมดุล
วิธีใช้
ทำความสะอาดและซับหน้าให้แห้งสนิท
วางแผ่นมาส์กลงบนผิวหน้า ทิ้งไว้ประมาณ 10–15 นาที
หลังจากนั้น ใช้ปลายนิ้วตบเบา ๆ ให้เอสเซนส์ซึมเข้าสู่ผิว
TIP:
ช่วยปลอบประโลมและเติมความชุ่มชื้นให้ผิวแห้งระคายเคืองทันที
สามารถทาเอสเซนส์ที่เหลือลงบนลำคอหรือผิวกายเพื่อเพิ่มความชุ่มชื้นได้
Ingredients
Aqua (Water), Tea Tree Leaf Water, Methylpropanediol, 1, 2-Hexanediol, Butylene Glycol, Glycerin, Niacinamide, Octyldodeceth-16, Triethylhexanoin, Caprylic/Capric Triglyceride, Pentylene Glycol, Carbomer, Hydroxyethylcellulose, Tromethamine, Allantoin, Trehalose, Caprylyl Glycol, Ethylhexylglycerin, Dipotassium-Glycyrrhizate, Disodium EDTA, Panthenol, Soybean Seed-Extract, Sodium Hyaluronate, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Pantothenic Acid, Centella Asiatica Leaf Water, Cyclodextrin, Centella-Asiatica Extract, Hydrogenated Lecithin, Madecassoside, Ceramide NP, Cholesterol, Camellia Sinensis Leaf Water, Resveratrol, Beta-Glucan, Sodium DNA, Nelumbo Nucifera Leaf Extract
🚛จัดส่งสินค้าวันจันทร์ - เสาร์ ยกเว้นวันหยุดนักขัตฤกษ์
ตัดรอบจัดส่งสินค้าเวลา 08.30 น.